Objetivos de pulverización catódica de tungsteno
3. Materiales de destino para células solares
(1) Materiales objetivo comúnmente utilizados: aluminio/cobre/molibdeno/cromo/ITO/Ta y otros materiales objetivo se utilizan comúnmente en células solares.
(2) Uso: Se utiliza principalmente en "capa de ventana", capa de barrera, electrodo y película conductora, etc.
(3) Requisitos de rendimiento: altos requisitos técnicos y una amplia gama de aplicaciones.
Objetivos de pulverización catódica W
4. Materiales de destino para el almacenamiento de información
(1) Materiales de destino comúnmente utilizados: los materiales de destino comúnmente utilizados para el almacenamiento de información incluyen cobalto/níquel/aleación de hierro/cromo/telurio/selenio y otros materiales.
(2) Uso: Este tipo de objetivo se utiliza principalmente para los cabezales magnéticos, las capas intermedias y las capas inferiores de las unidades ópticas y los discos ópticos.
(3) Requisitos de rendimiento: Existen requisitos más elevados en cuanto a alta densidad de almacenamiento y alta velocidad de transmisión.
5. Materiales de destino para la modificación de herramientas
(1) Materiales de destino comúnmente utilizados: aleación de titanio/circonio/cromo y aluminio y otros materiales de destino comúnmente utilizados para la modificación de herramientas.
(2)Uso: Generalmente se utiliza para reforzar superficies.
(3) Requisitos de rendimiento: Requisitos de alto rendimiento y larga vida útil.
WTi
6. Materiales de destino para dispositivos electrónicos
(1) Materiales de destino de uso común: materiales de destino de aleación de aluminio/siliciuro de uso común en dispositivos electrónicos
(2) Uso: Generalmente se utiliza en resistencias y condensadores de película delgada.
(3) Requisitos de rendimiento: tamaño pequeño, estabilidad y pequeño coeficiente de temperatura de resistencia.
