Proveedor de objetivos de pulverización catódica de tungsteno al 99,95 %
Clasificación de los campos de aplicación de los objetivos de pulverización catódica
1. Materiales de destino para semiconductores
(1) Materiales objetivo comúnmente utilizados: Los materiales objetivo comúnmente utilizados en este campo incluyen metales con alto punto de fusión como tantalio/cobre/titanio/aluminio/oro/níquel.
(2) Uso: Se utilizan principalmente como materia prima clave para circuitos integrados.
(3) Requisitos de rendimiento: Los requisitos técnicos de pureza, tamaño, integración, etc. son relativamente altos.
Fabricación de objetivos de pulverización catódica de tungsteno al 99,95 %
2. Materiales de destino para pantallas planas
(1) Materiales objetivo comúnmente utilizados: Los materiales objetivo comúnmente utilizados en este campo incluyen aluminio/cobre/molibdeno/níquel/niobio/silicio/cromo, etc.
(2) Uso: Este tipo de objetivo se utiliza principalmente para recubrimientos de áreas grandes en televisores, computadoras portátiles, etc.
(3) Requisitos de rendimiento: requisitos más elevados de pureza, gran área, uniformidad, etc.
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