Objetivo de pulverización catódica de titanio y tungsteno al 99,95 %
Campos de aplicación objetivo
1: Categoría de microelectrónica
2: Materiales de destino para pantallas planas
3: Materiales de destino para almacenar habilidades
La tendencia de desarrollo tecnológico de los materiales de destino está estrechamente relacionada con la tendencia de desarrollo de la tecnología de película delgada en las industrias de aplicación posteriores. A medida que la industria de aplicación mejora su tecnología en productos o componentes de película delgada, la tecnología de destino también debería cambiar en consecuencia. Por ejemplo, los fabricantes de circuitos integrados se han comprometido recientemente con el desarrollo de cableado de cobre de baja resistividad.
99,95 % de peso
Se espera que la película de aluminio original sea reemplazada en gran medida en los próximos años, por lo que será urgente el desarrollo de objetivos de cobre y los materiales de objetivo de capa de barrera necesarios. Además, en los últimos años, las pantallas planas (FPD) han reemplazado significativamente los mercados de monitores de computadora y televisores que originalmente estaban dominados por tubos de rayos catódicos (CRT). Esto también aumentará significativamente la demanda técnica y de mercado de objetivos de ITO. También en términos de habilidades de almacenamiento.
Proveedor de objetivos de pulverización catódica de tungsteno al 99,95 %
Los objetivos de pulverización catódica se utilizan principalmente en las industrias de la electrónica y la información, como circuitos integrados, almacenamiento de información, pantallas LCD, memorias láser, dispositivos de control electrónico, etc.; también se pueden utilizar en el campo del recubrimiento de vidrio; también se pueden utilizar en materiales resistentes al desgaste, resistencia a la corrosión a alta temperatura, suministros decorativos de alta gama y otras ocupaciones.
