Proveedor de objetivos para pulverización catódica de tungsteno al 80 %
En el caso de los objetivos de pulverización catódica de carburo de tungsteno, se recomienda que estos materiales estén unidos. Muchos materiales tienen propiedades que los hacen inadecuados para la pulverización catódica, como la fragilidad y la baja conductividad térmica. Este material puede requerir procedimientos especiales. Es posible que otros materiales no requieran este proceso. Los materiales de objetivo con baja conductividad térmica son susceptibles al choque térmico.
Objetivo de pulverización catódica de tungsteno al 80 % factpry
Solicitud
•Deposición química de vapor (CVD)
•Deposición física de vapor (PVD)
•Semiconductores
•Óptica
Proceso de manufactura
•Fabricación - prensado en frío - sinterización, elastómero adherido a placa de soporte
•Limpieza y embalaje final, utilizado para aspirar después de la limpieza.
Objetivos de pulverización catódica de tungsteno al 99,95 %
