Documento PDF PDF Producto objetivo de Zhenan Tungsten, haga clic para descargar
Material objetivo de tungsteno
El campo semiconductor generalmente requiere una pureza de mayor o igual a 99.95% (3N5), y la fabricación de chips de alta gama requiere 99.9995% (5N5).
Las aplicaciones industriales (como recubrimientos y herramientas de corte) pueden aceptar una pureza del 99.9% (3n).
Tantalum Material objetivo
La pureza de aplicación básica es mayor o igual a 99.9% (3n), mientras que el campo semiconductor generalmente requiere 99.995% (4N5) a 99.999% (5n).
Los componentes electrónicos, como los condensadores, incluso requieren más del 99.9995% (5N5).
Pantalla de imagen del producto de Tungsten Tungsten Detalles de la imagen
Tabla de parámetros del producto objetivo de zhenan tungsten
| Pureza (WT%) | Densidad (%) | Tamaño de grano (μm) | Dimensión (máx.) | Real academia de bellas artes |
|---|---|---|---|---|
| 99.995 | Mayor o igual a 19.18 | ﹤50 | 18"x 0.4" | Menos de o igual a 1.6 |
| 99.999 | Mayor o igual a 19.18 | ﹤50 | 18"x 0.4" | Menos de o igual a 1.6 |
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