Objetivo de pulverización catódica de tungsteno factpry
Principio de pulverización catódica por magnetrón:
Se añade un campo magnético ortogonal y un campo eléctrico entre el objetivo pulverizado (cátodo) y el ánodo, y el gas inerte requerido (normalmente gas Ar) se llena en la cámara de alto vacío. El imán permanente forma un ángulo de 250 a 350 grados en la superficie del material del objetivo. El campo magnético gaussiano y el campo eléctrico de alto voltaje forman un campo electromagnético ortogonal. Bajo el efecto del campo eléctrico, el gas Ar se ioniza en iones positivos y electrones. Se aplica un cierto alto voltaje negativo al objetivo. Los electrones emitidos desde el objetivo se ven afectados por el campo magnético y la probabilidad de ionización del gas de trabajo aumenta, formando un plasma de alta densidad cerca del cátodo. Los iones Ar se aceleran hacia la superficie del objetivo bajo la acción de la fuerza de Lorentz y bombardean la superficie del objetivo a una velocidad muy alta, lo que hace que los átomos pulverizados en el objetivo sigan el principio de conversión de momento y se alejen de la superficie del objetivo con alta energía cinética. La película se deposita sobre el sustrato.
Objetivos de pulverización catódica de tungsteno al 80 %
La pulverización catódica con magnetrón se divide generalmente en dos tipos: pulverización catódica con corriente continua y pulverización catódica con radiofrecuencia. El principio del equipo de pulverización catódica con corriente continua es simple y su velocidad también es rápida cuando se pulveriza metal. La pulverización catódica con radiofrecuencia tiene una gama más amplia de aplicaciones. Además de pulverizar materiales conductores, también puede pulverizar materiales no conductores. También puede realizar pulverización catódica reactiva para preparar materiales compuestos como óxidos, nitruros y carburos. Si se aumenta la frecuencia de la radiofrecuencia, se convierte en pulverización catódica con plasma de microondas. Actualmente, se utiliza comúnmente la pulverización catódica con plasma de microondas de tipo resonancia ciclotrónica electrónica (ECR).
Objetivos de pulverización catódica al 80 % W
